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產(chǎn)品

產(chǎn)品分類

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科研應(yīng)用鍍膜系統(tǒng)
產(chǎn)品名稱

多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)

該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,可進(jìn)行反應(yīng)濺射;用于硬質(zhì)膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。
產(chǎn)品名稱

熱蒸發(fā)、磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。
產(chǎn)品名稱

電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī),四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu),四對電極可單獨或共蒸發(fā),樣品Φ300(max),樣品臺公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計控制氣體流量,滿足離子轟擊壓力要求。
產(chǎn)品名稱

雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等,用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗,并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。
產(chǎn)品名稱

雙腔室多功能磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室,共用高真空系統(tǒng);為避免交叉污染,一個腔室可實現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜,另一腔室可實現(xiàn)濺射鍍膜。
產(chǎn)品名稱

多靶位立式磁控濺射鍍膜機(jī)

該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。
產(chǎn)品名稱

通用磁控濺射鍍膜機(jī)

磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用最廣泛的PVD沉積設(shè)備,可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實驗室制備光學(xué)膜層,電學(xué),光電膜層及其它功能膜層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校及相關(guān)科研機(jī)構(gòu)。
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